不銹鋼真空鍍的幾各類型

        不銹鋼真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍這幾種，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。 以下就來說說它們各自的優(yōu)點：
一、真空蒸鍍：在高真空下，通過金屬細絲的蒸發(fā)和凝結(jié)，使金屬薄層附著在塑膠表面。 真空蒸鍍過程中金屬(較常用的鋁)的熔融，蒸發(fā)僅需幾秒鐘，整個周期一般不超過15MM，鍍層厚度為0.8-1.2uM.
       設(shè)計真空蒸鍍塑料制品應(yīng)避免大的平坦表面，銳角和銳邊。凹凸圖案、紋理或拱形表面效果較好。真空蒸鍍很難獲得光學(xué)平面樣制品表面。不過鍍層附著力比水鍍差很多。A9手機的面殼鍍銅后鍍LOU，共10μ，鍍LOU層0.18μ。真空電鍍相對于水電鍍來講，表面硬度較低，但污染較小。真空鍍不導(dǎo)電 目前水電鍍在重工業(yè)上應(yīng)用較多（汽車等），而真空電鍍則廣泛應(yīng)用于家用電器、化妝品包裝。
如果真空電鍍的硬度能達到水電鍍的等級，那么水電鍍將要消失了。
       目前很多手機上的金屬外觀件，都采用PVD真空離子鍍，不僅能夠提供漂亮的顏色而且耐磨性很好。不過比較貴，成本較高。
二、濺射鍍：磁控濺射鍍膜設(shè)備：
       磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種多功能、高效率的鍍膜設(shè)備?？筛鶕?jù)用戶要求配置旋轉(zhuǎn)磁控靶、中頻孿生濺射靶、非平衡磁控濺射靶、直流脈沖疊加式偏壓電源等，組態(tài)靈活、用途廣泛，主要用于金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件鍍鋁、銅、鉻、鈦金、銀及不銹鋼等金屬膜或非金屬膜及滲金屬DLC膜，所鍍膜層均勻、致密、附著力強等特點，可廣泛用于家用電器、鐘表、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩以及儀器儀表等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。